쑤쑤_CS 기록장

포토 리소그래피(Photo Lithography) 공정 : 반도체 원 재료인 실리콘 웨이퍼에 회로 패턴을 형성하는 과정 - 노광 exposure : 포토 공정 중 핵심 세부 공정 1. 설계 패턴이 새겨진 금속 마스크 mask 원판에 빛을 쪼인다 2. 마스크를 통과한 빛은 웨이퍼 위로 도포된 감광액(PR:photoresist)에 닿는다 3. 화학 반응이 일어나면 빛이 닿은 곳, 닿지 않는 곳을 선택적으로 제거하는 과정을 거친다 4. 이렇게 패턴이 만들어진다. - 금속 마스크는 회로 패턴을 고스란히 담은 필름에 비유할 수 있다. 회로 정보를 담고 있는 원본 역할을 한다. 최종 반도체 완성품이 동작할 수 있도록 한다. - 7나노 로직에 극자외선(EUV) 노광 공정이 도입되면서 마스크 분야에선 애로 사항이 많은..